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簡要描述：恒溫油槽CH3030采用單片(pian)微處理器控制、自整定(ding)PID調節，進(jin)口鉑(bo)電阻（Pt100）測溫，控溫精度(du)高(gao)、波動度(du)小；儀(yi)器工(gong)作穩定(ding)可(ke)靠，操作方便安全。廣(guang)泛(fan)適用于(yu)生物工(gong)程，醫藥，食品，化工(gong)，治金，石油等(deng)領域。為用戶提供高(gao)精度(du)的，受(shou)控的，溫度(du)均勻的恒定(ding)的恒定(ding)場(chang)所，是研究院(yuan)，高(gao)等(deng)院(yuan)校。工(gong)廠實驗室，質檢部門理想的恒溫槽。
產品型(xing)號：CH3030
廠(chang)商性質：生產廠家
更新時(shi)間：2024-03-14
訪 問(wen) 量：1715
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恒溫油槽CH3030技術參數：
| 型 號 | CH3006 | CH3010 | CH3015 | CH3030 |
| 溫度(du)范圍（℃） | 室溫＋25～300 | 室(shi)溫＋25～300 | 室溫＋25～300 | 室溫＋25～300 |
| 溫度波動度（℃） | ± 0.1 | ± 0.1 | ± 0.1 | ± 0.1 |
| 控溫方式 | 微機溫(wen)控、PID調節(jie) | 微機溫控、PID調節 | 微機溫控、PID調節 | 微機溫控、PID調(diao)節 |
| 顯示分辨率(lv)（℃） | 0.1 | 0 | 0.1 | |
| 內膽容積（L） | 6 | 10 | 15 | 30 |
| 開口尺寸（長×寬(kuan)×深（mm） | 150 × 180 × 150 | 240× 180 × 150 | 240× 180 × 200 | 290× 350 × 200 |
| 泵循環方(fang)式(shi) | 內循環 | 內(nei)循環 | 內循環 | 內循環 |
| 泵流量（L） | 6 | 6 | 8 | 10 |
| 功率（KW） | 1.5 | 1.5 | 1.8 | 2 |
| 內膽(dan)尺(chi)寸（長×寬(kuan)×深（mm） | 240× 150× 150 | 280× 210 × 150 | 280 × 250 × 200 | 480×420 × 580 |
恒溫油(you)槽CH1515產品特點：
1，具有*內(nei)循環(huan)/外(wai)循環(huan)泵(beng)系統，內(nei)循環(huan)保證(zheng)溫度(du)均勻恒定，外(wai)循環(huan)泵(beng)可把槽內(nei)被加熱液體通過循環泵可(ke)以把槽內被恒(heng)溫液體外引建立(li)第(di)二恒(heng)溫場；
2 ，LED雙(shuang)窗(chuang)口分(fen)別數(shu)顯溫(wen)度測(ce)量值(zhi)及溫(wen)度設定值(zhi)，數(shu)顯分(fen)辨率0.01℃，觸摸(mo)按(an)鍵操作方便(bian)。
3，測(ce)量值偏差補正功(gong)能，溫度(du)精度(du)可達0.1度(du)
4，具有超溫(wen)保護功能，防止儀器失控；上限超溫報警，可自己設定，超出范圍，即刻報警；
5，內膽(dan)、臺面(mian)均(jun)為高(gao)質量不銹鋼，耐腐蝕，易清潔(jie) ，儀器工作穩定可靠，操作非常方便.
?可選配RS232或(huo)RS485通訊接口，實現數據傳輸(shu)進行遠距離控制。
?可以選配程序控溫系統，其特(te)點為：
大屏幕液晶顯示，軟(ruan)件程(cheng)序控制(zhi)，可編輯時(shi)間(jian)/溫度曲(qu)線。
多段(duan)可編溫(wen)度(du)、時間程(cheng)序，控制(zhi)升(sheng)溫(wen)、恒溫(wen)、降溫(wen)過程(cheng)，且升(sheng)溫(wen)速度(du)、降溫(wen)速度(du)可按用戶(hu)要求設(she)置自(zi)動控制(zhi)。
編寫儲存30個(ge)溫度(du)/時間段，每(mei)個(ge)程(cheng)序可設置0～9999分鐘(zhong)運行時間。
多種參數(shu)設定(ding)(ding)方式:方便(bian)快捷的輸入鍵(jian)、移(yi)位鍵(jian)和增鍵(jian)、減鍵(jian)，設定(ding)(ding)溫(wen)度/時間(jian)段及其他高級控制參數(shu)或直接調儲存的溫(wen)度/時間(jian)設定(ding)(ding)程(cheng)序。
?超級恒(heng)溫槽CH1020主要應用領域(yu)：
分析儀器:光譜儀、質譜儀、粘度計、旋光儀、發酵裝置、旋轉蒸發儀等配套使用 。
真空獲得及醫療:分子泵、擴散泵、降溫毯 、X光機核磁共振加速器等配套使用 。
工業設備及其他:激光設備、真空鍍膜設備、生物制藥、模具機床、真空爐、焊接機反應釜等配套使用。
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