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當前位置:首頁   >  產品中心  >  超級恒溫水浴槽系列  >  恒溫水浴系列  >  CH1030大容積恒溫水槽

大容積恒溫水槽

簡要描述:CH1030大容(rong)積恒(heng)溫(wen)(wen)(wen)水(shui)槽采用進口單片(pian)微處(chu)理器控(kong)制、自整定PID調(diao)節、進口鉑電(dian)阻(Pt100)測溫(wen)(wen)(wen),控(kong)溫(wen)(wen)(wen)精度高、波動(dong)度小;儀器工作穩(wen)定可靠(kao)、操作方便安(an)全。廣(guang)泛適用于(yu)生物工程、醫藥、食品、化工、治金(jin)、石(shi)油等(deng)領域。為用戶(hu)提供高精度的(de)(de)、受控(kong)的(de)(de)、溫(wen)(wen)(wen)度均勻的(de)(de)恒(heng)定的(de)(de)恒(heng)溫(wen)(wen)(wen)場所(suo),是研究(jiu)院、高等(deng)院校、工廠實驗室、質檢部(bu)門等(deng)理想的(de)(de)恒(heng)溫(wen)(wen)(wen)槽。

  • 產品型號:CH1030
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間(jian):2024-03-14
  • 訪  問  量:1752

詳細介紹

CH1030大容積恒溫水槽廣泛適用于生物工程、醫藥、食品、化工、治金、石油等領域。為用戶提供高精度的、受控的、溫度均勻的恒定的恒溫場所,是研究院、高等院校、工廠實驗室、質檢部門等理想的恒溫槽。

大容積恒溫水槽技術參數  :

型    號

CH1030

CH1040

CH1050

 溫度范圍(℃)

室(shi)溫+10~100

室溫+10~100

室溫+10~100

溫度波動度(℃)

      ± 0.05      ± 0.05      ± 0.05

控溫方式

微(wei)機溫控(kong)、PID調節

微機溫(wen)控、PID調節(jie)

微機(ji)溫控(kong)、PID調節

顯示分辨率(℃)

0.010.010.01

內膽容積(L)

304050

開口尺寸(長×寬×深(shen)(mm)

310× 280× 230

400× 380× 200

300× 350× 300

工作槽尺(chi)寸(cun) (長×寬×深(shen)(mm)

400× 330× 230

490× 420× 200

520× 320× 300

泵循環方式

 內循環 內循環 內循環

泵(beng)流(liu)量(L)

888

CH1030產品特點:

1,具有*內循(xun)(xun)(xun)環/外循(xun)(xun)(xun)環泵系(xi)統,內循(xun)(xun)(xun)環保證溫度均勻恒定,外循(xun)(xun)(xun)環泵可把(ba)槽內被加熱液體(ti)通過循(xun)(xun)(xun)

環(huan)泵(beng)可以(yi)把槽內被恒(heng)溫液體外引建立第二(er)恒(heng)溫場;

2 ,LED雙窗口分別數顯(xian)溫度測量值及溫度設定(ding)值,數顯(xian)分辨率0.01℃,觸摸按鍵操作方(fang)便(bian)。

3,測量值偏差補正功能,溫(wen)度(du)(du)精(jing)度(du)(du)可達0.1℃;

4,具有超溫保護功能,防止儀器(qi)失控(kong);上限(xian)超溫報警,可(ke)自己設定,超出范圍(wei),即刻報警;

5,內膽、臺(tai)面(mian)均(jun)為高質量不銹鋼,耐(nai)腐蝕,易清潔 ,儀器工(gong)作穩(wen)定可靠(kao),操作非(fei)常方便(bian).

♦可選配(pei)RS232或RS485通訊(xun)接口(kou),實現(xian)數(shu)據(ju)傳輸進行遠距離控(kong)制(zhi)。

♦可以選配程序控溫系統,其特點為:
 大屏幕液晶顯示,軟件程序控制,可編輯時間/溫度曲線。
 多段可編溫度、時間程序,控制升溫、恒溫、降溫過程,且升溫速度、降溫速度可按用戶要求設置自動控制。
 編寫儲存30個溫度/時間段,每個程序可設置0~9999分鐘運行時間。
 多(duo)種參(can)數設(she)定方式:方便快捷的輸入鍵、移位鍵和增(zeng)鍵、減(jian)鍵,設(she)定溫度/時(shi)間(jian)段及其他(ta)高級控制(zhi)參(can)數或直接調儲(chu)存的溫度/時(shi)間(jian)設(she)定程序(xu)。

CH1030主要應用領域:

 分析儀器:光譜儀、質譜儀、粘度計、旋光儀、發酵裝置、旋轉蒸發儀等配套使用 。
真空獲得及醫療:分子泵、擴散泵、降溫毯 、X光機核磁共振加速器等配套使用 。
工業設備及其他:激光設備、真空鍍膜設備、生物制藥、模具機床、真空爐、焊接機反應釜等配套使用。

 

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