簡要描述:40升大容積恒溫水槽CH1040的詳細資料: 采用單片微處理器控制、自整定PID調節、進口鉑電阻(Pt100)測溫,控溫精度高、波動度小;儀器工作穩定可靠,操作方便安全。 CH1040廣泛適(shi)用于生物工程(cheng)、醫藥(yao)、食品、化工、治金、石油(you)等領域。為用戶提供(gong)高精度的(de)、受(shou)控(kong)的(de)、溫度均勻的(de)恒定的(de)恒溫場所,是(shi)研(yan)究(jiu)院、高等院校、工廠實驗室部門等
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40升大容(rong)積恒溫(wen)(wen)水槽廣泛適用(yong)于(yu)生物工(gong)(gong)程、醫藥(yao)、食品、化(hua)工(gong)(gong)、治金(jin)、石油等(deng)領(ling)域。為用(yong)戶(hu)提供高精度的(de)(de)、受(shou)控的(de)(de)、溫(wen)(wen)度均勻的(de)(de)恒定的(de)(de)恒溫(wen)(wen)場所;是研究院(yuan)、高等(deng)院(yuan)校、工(gong)(gong)廠實(shi)驗室、質檢部門等(deng)理想(xiang)的(de)(de)恒溫(wen)(wen)槽。
廣泛適(shi)用(yong)于生物工(gong)(gong)程、醫藥、食品(pin)、化(hua)工(gong)(gong)、治金(jin)、石油等領域。為用(yong)戶(hu)提供高精度的(de)、受控(kong)的(de)、溫(wen)度均勻(yun)的(de)恒定的(de)恒溫(wen)場所(suo);是研(yan)究(jiu)院(yuan)、高等院(yuan)校(xiao)、工(gong)(gong)廠(chang)實驗室、質檢部門等理想(xiang)的(de)恒溫(wen)槽。
?40升大容積恒溫水槽CH1040技術參數 :
型 號 | CH1040 |
溫度范圍(℃) | 室溫+10~100 |
溫度(du)波(bo)動度(du)(℃) | 0.1 |
控(kong)溫方(fang)式 | 微(wei)機溫控(kong)、PID調節(jie) |
顯示分辨率(℃) | 0.01 |
內膽容積(L) | 40 |
開口尺寸(cun)(長×寬×深(mm) | 400× 380× 200 |
泵(beng)循(xun)環方(fang)式 | 內循環 |
泵流量(L) | 8 |
功率(KW) | 2.1 |
工作槽容積 | 490 × 420 × 200 |
?大容積超級恒溫水浴CH1040產品特點:
1,具有*內(nei)循(xun)環(huan)/外(wai)循(xun)環(huan)泵系統,內(nei)循(xun)環(huan)保(bao)證(zheng)溫度均勻恒定,外(wai)循(xun)環(huan)泵可把(ba)槽內(nei)被(bei)加熱液體通過循環泵可以把槽內被恒(heng)溫液體(ti)外引(yin)建立第(di)二恒(heng)溫場;
2 ,LED雙窗口(kou)分別數(shu)顯(xian)溫(wen)度測量值及(ji)溫(wen)度設定值,數(shu)顯(xian)分辨率0.01℃,觸(chu)摸按鍵操作方便(bian)。
3,測量值偏(pian)差補正功能,溫度精度可達0.1℃;
4,具有超溫保護功能,防止儀器失控;上限超溫報警,可自己設定,超出范圍,即刻報警;
5,內膽(dan)、臺面均為高質(zhi)量不銹鋼,耐(nai)腐蝕,易清(qing)潔 ,儀器工(gong)作(zuo)(zuo)穩定可靠,操作(zuo)(zuo)非常方便.
?可選配RS232或RS485通訊(xun)接口,實(shi)現數(shu)據傳輸進行遠距(ju)離控制(zhi)。
?可以選配(pei)程(cheng)序控溫系統,其特點(dian)為:
大屏幕液晶顯示,軟件程序控制,可編輯時間/溫度曲線。
多段可編(bian)溫度(du)、時間(jian)程序(xu),控(kong)制升溫、恒溫、降溫過程,且升溫速(su)度(du)、降溫速(su)度(du)可按用戶要(yao)求設(she)置自動控(kong)制。
編寫儲存30個溫度(du)/時間段(duan),每個程序(xu)可設置0~9999分鐘運行時間。
多(duo)種參數設(she)定方式:方便快(kuai)捷的(de)輸入鍵、移(yi)位(wei)鍵和增鍵、減(jian)鍵,設(she)定溫(wen)度/時(shi)間(jian)段及其(qi)他(ta)高級(ji)控制參數或直接調儲(chu)存的(de)溫(wen)度/時(shi)間(jian)設(she)定程序。
?大容積(ji)超級恒溫水浴CH1040主要應用領域:
分析儀器:光譜儀、質譜儀、粘度計、旋光儀、發酵裝置、旋轉蒸發儀等配套使用 。
真空獲得及醫療:分子泵、擴散泵、降溫毯 、X光機核磁共振加速器等配套使用 。
工業設備及其他:激光設備、真空鍍膜設備、生物制藥、模具機床、真空爐、焊接機反應釜等配套使用。
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